23. září 2016 00:51
Přístroje firmy Q-Lab Corporation pro sluneční simulace a testy odolnosti vůči UV složce slunečního záření
Povětrnostní vlivy způsobují každoročně významné poškození materiálů nebo jejich povrchů či povrchových úprav nebo celé struktury materiálu v objemu. Dochází k barevným změnám, ztrátě lesku, pevnosti povrchové vrstvy, křídovatění, vzniku trhlin a oxidaci povrchu až k celkové degradaci materiálu.
Tyto vlivy jsou působeny kombinací světelného záření, vlhkosti vzduchu, deště, teploty a jejími výkyvy. Materiály odolné jednomu z těchto faktorů mohou být narušovány kombinací s faktorem druhým, a proto je nezbytné celou problematiku sledovat komplexně.
Firma Q-Lab Corporation tak vychází vstříc potřebám výzkumu i technické praxe nabídkou svých přístrojů a služeb všem zákazníkům, pro něž je důležité znát odolnost jednotlivých složek materiálů, resp. povrchové úpravy vůči působení povětrnostních vlivů.
Q–SUN
Přístroje řady Q–SUN slouží ke komplexní sluneční simulaci zářením xenonové výbojky. Složka krátkovlnného UV záření je potlačena filtry buď na úroveň běžného slunečního záření nebo na záření odpovídající expozici za okenním sklem. K dispozici jsou dále i další druhy filtrů.
Opět je možno kombinovat osvit vzorků s působením zvýšené teploty, případně relativní vlhkosti vzduchu. Některé modely umožňují postřik vzorků vodou.
Intenzita osvitu je regulována radiometricky a vyhodnocována jako celková expozice pro danou zkoušku.
Zásadní předností přístroje jsou pak nízké provozní náklady a vysoká spolehlivost zajištěná cenově přijatelnou vzduchem chlazenou Xe výbojkou. Přístroje Q SUN jsou vyráběny ve dvou velikostech a svou cenovou přístupností umožní testy odolnosti vůči slunečnímu záření širokému spektru zákazníků.
QUV tester
Přístroj pro rychlé vyhodnocení vzorků s minimálními provozními náklady. Osazen fluorescenčními trubicemi se zářením odpovídajícím sluneční složce UV záření.
Neposkytuje celé sluneční spektrum, ale pouze jeho UV část. Využívají se lampy pro UV záření typu UVA s maximem záření na 340 nm, dále UVB s maximem na 313 nm a případně lampy UVA s maximem na 351 nm pro simulaci záření přes okenní sklo. K dispozici jsou i jiné speciální světelné zdroje.
Test může probíhat v cyklech s působením kondenzace vody na vzorcích, případně s cyklickým ostřikem vzorků tlakovou demineralizovanou vodou. Intenzita světelného zdroje je sledována radiometry kalibrovanými dle druhu použitých lamp a řízena regulací výkonu lamp.
Předností přístroje jsou čtyři velké expoziční plochy cca 300 × 600 mm, které se osazují držáky vzorků dle potřeby zákazníka.
Venkovní skutečné expozice
Další možností testování výrobků je přenechat celou práci s expozicí vzorků vůči slunečnímu záření firmě Q-Lab Corporation, která zajišťuje expozice a následné testy na venkovních expozičních stanicích na Floridě a v Arizoně, resp. provádí i testy na zakázku za užití výše uvedených strojů.

Testovací pole pro ploché vzorky, Florida.
Zcela záměrně zde neuvádím technické detaily a data, výpisy jednotlivých modelů a podobně. Další podrobné informace, firemní prospekty a cenové informace Vám rádi poskytneme na níže uvedených kontaktech.
Těšíme se na spolupráci s Vámi, která pro nás bude velkým poučením a věříme, že i naše přístroje a služby přispějí k Vašemu úspěchu.
Dr. Ing. Milan Pražák
Vystavujeme na MSV Brno, pavilon C, stánek 032.
Mohlo by se Vám líbit
12 trendů, které budou formovat automotive v roce 2026
- Automotive
-
06. března 2026
Automobilový průmysl patří mezi segmenty, které výrazně ovlivňují technologie, regulace, energetika i změny v chování zákazníků. Změny se promítají do podoby samotných vozů, způsobu jejich […]
Tungaloy reaguje na rostoucí náklady na slinutý karbid chytřejšími a udržitelnějšími řešeními
- Obrábění
-
05. března 2026
Rostoucí ceny wolframu, zvyšující se tlak na dostupnost surovin a silná poptávka ze strany vyspělých průmyslových odvětví mění globální odvětví obrábění. V průběhu roku 2025 […]
PGI: Digitální revoluce ukrytá v konstrukci snímače
- Digitalizace
-
04. března 2026
V metrologii profilu povrchu neustále narážíme na jeden zásadní kompromis: buď měříme s vysokým rozlišením na krátké dráze, nebo měříme s velkým rozsahem, ale ztrácíme detaily. […]
